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Descrizione


Provides an up-to-date assessment of chemically amplified resist materials chemistry and process considerations. Reports novel chemistry for single layer 193nm lithographic applications. Discusses new approaches to silicon-containing resists and multilevel processes. Explores the design of low-dielectric polymer materials for microelectronic applications.
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Dettagli

ACS Symposium Series
1995
Hardback
590 p.
Testo in English
235 x 156 mm
885 gr.
9780841233324
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