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LIBRO INGLESE

Plasma Etching: An Introduction

Dennis M. Manos (Curatore)

Daniel L. Flamm (Curatore)

Elsevier Science Publishing Co Inc, 1989

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Descrizione

Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing. Suitable for researchers, process engineers, and graduate students, this book introduces the basic physics and chemistry of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms. Throughout the volume the authors offer practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods.

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Dettagli

Curatore:

Dennis M. Manos, Daniel L. Flamm

Editore:

Elsevier Science Publishing Co Inc

Anno:

1989

Rilegatura:

Hardback

Pagine:

476 p.

Testo in English

Dimensioni:

229 x 152 mm

Peso:

750 gr.

EAN:

9780124693708

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